Litografia ottica in classe 100 (ISO 5)
Mask aligner Carl Süss
Mask aligner Quintel con allineamento fronte/retro
Laserwriter Heidelberg con testa a 800 nm e con toni di grigio.
Sistemi di deposizione film sottili in classe 10000 (ISO 7):
Sputtering DC
Sputtering RF Leybold
Evaporatore termico e a cannone elettronico
Deep Reactive Ion Etching Oxford PlasmaLab 100 Cobra. Il laboratorio è a controllo particellare
Molecolar Beam Epitaxy con AFM in ultra alto vuoto
Sputtering per materiali magnetici
Forni Rapid Thermal Annealing
Evaporatori termici
Reattore PECVD
Plasma etcher
Cappa chimica per la pulizia dei substrati e la produzione di nanostrutture di silicio
Ellissometro Woollam.
Nanolitografia e Focused Ion Beam:
Dual Beam ESEM FEG Quanta 3D™ equipaggiato con fascio ionico a ioni Ga+, quattro nanomanipolatori Kleindiek Nanoteknik, due Gas Injector System, uno al Pt e l'altro al SiOx e NanoPattern Generator System della J.G. Nabity per la nanolitografia.
Inspect F™ FEG equipaggiato con microanalisi EDAX e NanoPattern Generator System della J.G. Nabity per la nanolitografia.