Litografia ottica in classe 100 (ISO 5)

Mask aligner Carl Süss

Mask aligner Quintel con allineamento fronte/retro

Laserwriter Heidelberg con testa a 800 nm e con toni di grigio.

Sistemi di deposizione film sottili in classe 10000 (ISO 7):

Sputtering DC

Sputtering RF Leybold

Evaporatore termico e a cannone elettronico

Deep Reactive Ion Etching Oxford PlasmaLab 100 Cobra. Il laboratorio è a controllo particellare

Molecolar Beam Epitaxy con AFM in ultra alto vuoto

Sputtering per materiali magnetici

Forni Rapid Thermal Annealing

Evaporatori termici

Reattore PECVD

Plasma etcher

Cappa chimica per la pulizia dei substrati e la produzione di nanostrutture di silicio

Ellissometro Woollam.

Nanolitografia e Focused Ion Beam:

Dual Beam ESEM FEG Quanta 3D™ equipaggiato con fascio ionico a ioni Ga+, quattro nanomanipolatori Kleindiek Nanoteknik, due Gas Injector System, uno al Pt e l'altro al SiOx e NanoPattern Generator System della J.G. Nabity per la nanolitografia.

Inspect F™ FEG equipaggiato con microanalisi EDAX e NanoPattern Generator System della J.G. Nabity per la nanolitografia.