Abstract
Deposizione per sputtering rf e dc di materiali magnetici, sia a base metallica che ossidica. E' possibile ottenere film di elementi puri, leghe multielementari e sistemi multistrato, con struttura amorfa o policristallina a seconda del materiale.
RESPONSABILE: Marco Coisson
ML Metrologia dei materiali innovativi e scienze della vita
Tel. 011 3919 855
m.coisson@inrim.it
Tipo di servizio
Caratterizzazione magnetica