MetHPM

Il progetto MetHPM - Metrology for Highly Parallel Manufacturing si prefigge i seguenti obiettivi:

• Misurazione più rapida e accurata della struttura superficiale, per le dimensioni critiche di piste e canali e per il controllo di qualità a velocità di produzione di micro/nanostrutture.
• Tracciamento del substrato a 1 µm per l'allineamento dell'overlay a 10 µm
• Ottimizzazione del processo, feedback in linea sfruttando la correlazione difetto-funzione
• Riferibilità, standard e guide metrologiche utilizzando i casi di studio