PROMETH2O - Metrology for trace water in ultra-pure process gases

PROMETH2O - Metrology for trace water in ultra-pure process gases

Il vapore acqueo è il principale contaminante dei gas ultra-puri di processo (UHP)  impiegati nei processi tecnologici quali la produzione dei semiconduttori. 

Tali gas, se contaminati da poche parti per miliardo di vapore acqueo, possono causare difetti nel funzionamento dei microchip, riducendo significativamente la resa del processo manifatturiero. 

La misurazione del vapore acqueo presenta dunque grandi sfide sia ai produttori leader di gas industriali, e sia a coloro che realizzano e perfezionano strumenti analitici.

OBIETTIVI DEL PROGETTO
  • Migliorare i metodi e le tecniche di misurazione dell'acqua in tracce; 

  • Colmare la lacuna di conoscenza per quanto riguarda la riferibilità metrologica a concentrazioni di acqua di poche parti per miliardo, attraverso lo sviluppo di adeguati standard;

  • Migliorare l’attuale conoscenza dei dati termofisici relativi alle miscele di gas reali;

  • Dimostrare il miglioramento delle tecniche di misurazione dell’acqua in tracce in impianti di rilevanza industriale;

  • Facilitare l'adozione della tecnologia e dell'infrastruttura di misurazione sviluppata nel progetto.

Ultima modifica: 28/05/2021 - 09:08